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南大光电6亿光刻胶项目落户宁波

2019-10-27 0
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南大光电

 

南大光电10月23日与宁波经济技术开发区管理委员会签署了《投资协议书》。

 

南大光电公告称,按照协议,南大光电拟在宁波经济技术开发区投资开发“高端集成电路制造用各种先进光刻胶材料”以及配套原材料和“底部抗反射层等高纯配套材料”,形成规模化生产能力,建立配套完整的国产光刻胶产业链。南大光电于1 该项目计划总投资6亿元,预计总用地50亩。

 

项目完全达产后,预计实现约10亿元的年销售额。 资料显示,南大光电主要从事高纯电子材料研发、生产和销售,通过承担国家重大技术攻关项目并实现产业化。目前,该公司已拥有MO源、电子特气、ALD/CVD前驱体材料等业务板块。 2017年,南大光电承担了集成电路芯片制造用关键核心材料之一的“193nm光刻胶材料的研发与产业化项目”(以下简称193nm光刻胶项目)。

 

南大光电2019年半年报表示,公司组建了包括高级光刻胶专业人才的独立研发团队,建成1500平方米的研发中心和百升级光刻胶中试生产线。目前,南大光电“193nm光刻胶及配套材料关键技术研究项目”的研发工作已经完成,正在等待验收。 同时设立了光刻胶事业部,并成立了全资子公司宁波南大光电材料,推进“193nm光刻胶项目”的落地实施,预计将在2019年底在宁波建成一条光刻胶生产线。 对于此番投建的项目,南大光电特别在公告中强调,项目与公司正在推进的“193nm光刻胶项目”系两个独立的项目。公司称,投建新项目是为加大对先进光刻胶材料以及配套原材料的建设。

 

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